SciAps Z-901 CSi hordozható LIBS spektrométer szén és szilícium analízisére

SciAps Z-901 CSi hordozható LIBS spektrométer szén és szilícium analízisére

SciAps Z-901 CSi hordozható LIBS spektrométer szén és szilícium analízisére egy speciális kézi lézeres anyaganalizátor, amelyet a szén (C) és szilícium (Si) gyors, megbízható mérésére terveztek acélokban, rozsdamentes acélban és egyéb fémötvözetekben.

Ez az eszköz kiegészíti az XRF analízist ott, ahol az XRF nem tudja mérni a szént – különösen kritikus rozsdamentes acéloknál, ahol a „carbon equivalent” értékek vagy L- és H-grade különbségek vizsgálata szükséges.

Műszaki jellemzők és működési elv

• Lézer- és spektrális tartomány: 190-260 nm, amely optimálisan alkalmas C és Si emissziós vonalak detektálására
• Kalibrált elemek: szén és szilícium, valamint más kapcsolódó elemek a készülék kalibrációs adatbázisában
• Működési mód: argon purge működés támogatott, ami növeli a jel/zaj arányt, különösen UV tartományban
• Ablaktisztítás: beépített levegőpumpa, amely segít tisztán tartani a mérőablakot a portól és szennyeződésektől
• Célzás és dokumentáció: integrált kamera a mérési pont precíz kijelöléséhez, makro kamera vonalkód / QR kód dokumentációhoz
• Biztonság: mintafelismerő érzékelő, amely biztosítja, hogy a lézer csak akkor lőjön, ha megfelelő minta van az ablak előtt
• Kialakítás és tartósság: robusztus fémházas konstrukció, keskeny mérőfej nehezen hozzáférhető felületekhez
• Kalibrációs lehetőségek: gyári kalibráció C és Si-re, plusz lehetőség felhasználói kalibrációk hozzáadására

Alkalmazási területek

A SciAps Z-901 CSi hordozható LIBS spektrométer különösen értékes az alábbi feladatokban:

• Széntartalom meghatározása acél és rozsdamentes acél kivitelű anyagokon
• Szilícium tartalom ellenőrzése ötvözetekben, amely fontos adat az anyagminősítéshez
• Minőségellenőrzés és anyagazonosítás fémgyártásban, hegesztési felületeken, újrahasznosítási alkalmazásokban
• Kiegészítés XRF mérésekhez, hogy komplexebb kémiai profilt kapjunk (XRF nehezebben mér C-t)

Előnyök felhasználóknak

• Gyors mérés (másodpercek alatt) akár szén és szilícium adatokkal együtt
• Jobb érzékenység és jel/zaj arány argon purge használatával
• Minimalizált minta-előkészítés, mivel a lézer képes áthatolni felületi szennyeződéseken
• Egyszerű kezelhetőség, intuitív felhasználói felület
• Rugalmasság a kalibráció bővítésében, új elemek és mátrixok hozzáadásával
• Robusztus ipari kivitel, tartós kialakítás
• Költséghatékonyság: kevesebb laboranalízis és gyorsabb döntéshozatal